推 sandcaster:NaOH 09/23 01:14
推 iam068:45 wt% HF ? 09/23 02:18
推 ChrisPaul03:BOE裡面就含有HF 09/23 09:38
→ ChrisPaul03:CMP也可以去除整面SiO2 09/23 09:39
→ ChrisPaul03:但是去了也沒用...春風吹又生 09/23 09:39
→ hodancebear:謝謝前輩們提供寶貴意見 09/23 19:58
小弟的專題正在做個非揮發性記憶體元件
必須在晶圓的背面鍍上Al當電極
但是晶圓背面所生成的二氧化矽會造成不必要的電容產生
所以我想請問前輩們晶圓上所生成的二氧化矽除了用buffer oxide etchant清除外
還有沒有什麼方法可以清除掉?
希望是實驗室裡能做得到的
感激不盡^^
--
※ 發信站: 批踢踢實業坊(ptt.cc)
◆ From: 61.230.220.150