※ 引述《cellowu (cellowu)》之銘言：
: ※ 引述《PDADDY (All Eyez On Me)》之銘言：
: : 這個部份我覺得怪怪的
: : 所謂一般wafer的氧化層是指native oxide(1)
: : 還是指PECVD覆蓋上去的氧化層(2)
: : 還是通氧氣在高溫之下 silicon wafer表面形成的氧化層呢?(3)
: : 因為不論是市售的wafer或是實驗室自己生長切片後的wafer
: : 在1或是3的狀況之下 都是呈現親水性
: : 經過HF清洗之後呈現疏水性
: : 但是在經過化學拋光之後
: : 1和3都是呈現疏水性
: : 也就是說經過拋光手續之後
: : 不論是natice oxide或是通氧生成的oxide
: : 都是呈現疏水性質的
: (1)放在大氣中氧化的wafer
: (2)PECVD 用TEOS 長的oxide
: (3)市售的SiO2
: (2,3)都是水藍色的
: 這個在未吃過HF 前碰到水時都是疏水性,只是他的水珠稍為大顆一點
: 但一吃過HF會先馬上變親水性,再變疏水性
如果指的氧化層厚度都是100nm左右的話
2跟3應該都是未拋光的片子
不過2我沒試過未拋光座氧化層的親疏水性測試
但是1跟3我很確定浸泡HF之前是完全的親水性
因為整片wafer都覆蓋滿水 而不是水珠
至於化學拋光過後
3我有做過浸泡HF觀察變化
不過都是完全疏水性
剛剛很無聊跑去翻以前的片子做了一下測試
測試片是市售sc 4~8" 還有自己生長的mc 2~3"
都是p-type light doped
可不可以請C版友說明一下
這是您的經驗或是有文獻提到嗎
我想這或許是這個版最重要的地方
大家可以提供自己的經驗
供大家在實驗或是遇到問題的時候
能有一些參考的部分
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"It's not about east or west, it's about niggaz and bitches,
power and money, riderz and punks!"
這不關於東岸或是西岸,而是關於兄弟和女人,權力和金錢,領導者和卒仔.......
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