→ honna:增加親水性可用氧電漿處理 05/13 18:10
→ YJM1106:酸洗 硫酸+硝酸 比例可以看文獻 例如 3:1 05/13 19:39
推 OhMyAlex:piranha solution 硫酸+雙氧水 7:3 約100度煮一個小時 05/13 21:37
→ OhMyAlex:乾淨的矽晶片就超親水了 接觸角接近零度 05/13 21:38
推 gone20080919:HF沖一下 05/13 22:12
推 xcent:乾淨的矽基板會超親水？我每次用HF去氧化後，都是超疏水耶!? 05/15 12:36
推 OhMyAlex:wafer表面有一層SiO2 SiO2超親水 HF洗完剩Si 接觸角~70度 05/16 11:58
→ OhMyAlex:所以piranha也不能洗太久 一個小時就差不多了 05/16 11:59
推 IZO:乾淨的矽基板為疏水 因為Si為單鍵之飽和鍵結 05/16 22:18
推 OhMyAlex:正常wafer表面都會有一層氧化 把表面髒污洗去就親水 05/16 23:14
→ OhMyAlex:玻璃也是用piranha洗 洗完親水性也很高 表面形成水膜 05/16 23:15
推 MrZacky:用氮氣電漿也很有效!!! 05/28 21:38