作者bubblefly (舞夢(*生活故事*))
看板ChemEng
標題[問題] rapid thermal annealing
時間Wed Aug 11 11:45:03 2010
我有一個thin film的樣品
substrate是ITO
第一層(夾層)的film是 CuO (nanosize)
第二層(最上層)是TiO2 (nanosize)
我想要利用rapid thermal annealing方法把兩層膜結合起來
不因為用furnace加高溫過久讓CuO變成一整大塊
但是 不確定有辦法在這個annealing的方式裡面 使得加溫方向是對著TiO2層嗎?
而不是從ITO那層接觸加熱區域
我不能讓TiO2這層貼在其他東西上 不然particle會被黏掉....
ITO substrate還有大約0.5cm*1.5cm的面積沒有CuO/TiO2的部分 可以當固定的位置
謝謝大家 ^^
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◆ From: 68.50.178.201
→ leox243:RTA通常只有一面有燈管,把加熱面對著燈管就好了 08/11 16:29
→ leox243:不過熱擴散的速度也很快,我不認為會只朝單面加熱 08/11 16:30
→ bubblefly:可是需要接觸式加熱嗎? 還是可以隔一段距離加熱? 08/12 11:22
→ leox243:接不接觸要看你的設備,我用過的RTA是有間隔的 08/12 20:52
→ leox243:不過RTA也會同時加熱到你的載台,所以還是都會被加熱到 08/12 20:53