最近遇到一個計算上的難題
已查閱許多資料
仍不知道從哪裡著手
特上來詢問各位板大ㄒ_ㄒ
實驗機構如下圖所示
H2(g)
| ____
____|____|__ H2(g)+SiCl4(g)
| | | |
|___|______|
| | |
|__________|
SiCl4(l)
將鋼瓶中的氫氣通入四氯化矽液體儲槽中
使四氯化矽液體汽化,與氫氣ㄧ同進入管路
求進入管路的四氯化矽濃度為多少?
目前已知:
進料與出料都會安裝壓力計
液體儲槽則會進行控溫
假設:
氫氣進料0.8L/MIN
儲槽溫度50oC
應該由Clausius-Clapeyro equation作為計算基準嗎??
因為真的苦惱已久
請讓我獻上少少的1000P當作祭品
跪求大神解答ㄒ_ㄒ
感恩!!!
--
※ 發信站: 批踢踢實業坊(ptt.cc)
◆ From: 122.116.99.88