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作者
bhchad (新生代台勞)
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標題
[製程] 上完光阻顯影後放一天!
時間
Thu Nov 8 23:19:13 2012
想問一下版友 若是做製程時 sample上完光阻 也曝光 顯影了 原本按理說應該是繼續下個步驟 如:電子蒸鍍金屬上去 再lift-off之類的 如果我sample顯影後 隔了一天在做蒸鍍 會有不良影響嗎?? --
※ 發信站: 批踢踢實業坊(ptt.cc)
◆ From: 114.45.108.235
推
Dewind
:不會,但也不要放太久,有可能會不好lift-off
1.162.218.145 11/12 00:36