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如題 最近嘗試要把送樣的XPS試片數據fitting峰值 (樣品為氮化鋯、氮氧化鋯、氧化鋯等薄膜) 我去查了一下,好像fitting之前要做校正 我的試片有先做Ar預濺擊約5分鐘,所以應該是用Ar峰值做校正(242 eV) 比方說試片(一) 我去查了一下數據,Ar的高解析能譜圖,XPS管理員幫我簡易估了一下大概是242.612 eV (所以我全部的數據的能峰值照理說都要減掉0.612 eV) 可是當做完校正後(扣完0.612後),我發現試片(一)的圖要fitting時反而變得很詭異 所fitting出來的能峰值都跟文獻差的更遠,不校正好像還比較接近文獻值= = (如果不要校正fitting出來的峰值位置還比較接近我搜尋的文獻) 我嘗試過把Ar本身的能譜圖拿出來fitting,想說管理員粗估可能會不准 結果一fitting出來是243.25,偏了1.25 eV更多= =||| (Ar我只放一根peak去fitting,雖然是用Ar濺擊,但其實Ar的高解析能譜圖強度也不高) (Ar的高解析能譜的圖很粗糙(rough),可以看到很多鋸齒) 所以...到底是... (1)現在我是不是乾脆都不要校正直接fitting好像還比較好...= = (2)改用碳(C 284.6 eV)去校正,可是都預濺擊過了用C校正會準嗎?? (3)我校正方式錯了 (4)文獻一堆人根本也忘了校正就fitting了?? 懇求各位高手幫忙了~QQ -- ※ 發信站: 批踢踢實業坊(ptt.cc) ◆ From: 140.120.135.244
zarya120:應該是用C來校正 122.146.81.207 05/06 05:38
grayalien01:Z大那我應該用預濺擊前的C校正囉??140.120.135.244 05/06 10:00
grayalien01:因為濺擊後C的高解能譜圖強度變得比Ar140.120.135.244 05/06 10:00
grayalien01:的更弱140.120.135.244 05/06 10:01
zarya120:你沒有打碳譜嗎? 27.51.1.7 05/06 16:25
zarya120:不是根據強弱來判斷用哪個做校正的 27.51.1.7 05/06 16:25
我在用Ar做預濺擊前皆有收集Ar跟C的高解析能譜 預濺擊前的話,C的能譜比Ar清楚很多(Ar譜幾乎是條鋸齒水平線) 濺擊後反過來,Ar譜比C譜清楚(但也很多鋸齒),然後C譜幾乎是條鋸齒水平線 所以我是想說濺擊後Ar的能譜較明顯所以選用Ar (不過校正後覺得不要校正所fitting的峰值位置跟文獻反而比較像= =) 我是還沒有嘗試過用C譜去校正,因為試片濺擊後C譜的訊號很弱不知道還能不能fitting 文獻上好像也是傾向如果有用Ar濺擊清掉表面汙染,校正就是用Ar譜 我如果校正的話,以Zr-N鍵結為例,文獻值約是178.8 eV 我去fitting整個峰值會偏移到176 eV左右(Zr-3d) 去計算含量推測,我目前推測可能是Zr的含量過高讓Zr-N峰值往低能量偏移 但應該不會偏到近2 eV那麼多吧= =??? 實在好困擾~"~ 感謝Z大熱心 ※ 編輯: grayalien01 來自: 140.120.135.244 (05/06 19:04)