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小弟的磊晶完的試片是在sapphire上長一層u-GaN和n-GaN 想依照文獻做法做Etch pit density的分析 很多資料都是將試片泡在160度的磷酸6分鐘左右 但我泡出來用AFM檢視的結果表面卻是平整 並沒有出現缺陷孔洞 小弟試著提高溫度與蝕刻時間卻還是沒有結果 不知道有沒有做過這方面研究的前輩知道有可能是哪裡出錯了嗎? 感謝!! -- ※ 發信站: 批踢踢實業坊(ptt.cc) ◆ From: 140.114.19.92
heats:硫酸磷酸3:1 試試看 140.115.55.244 07/25 19:11