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※ 引述《grayalien01 (怕冷企鵝)》之銘言: : 如題 : 最近嘗試要把送樣的XPS試片數據fitting峰值 : (樣品為氮化鋯、氮氧化鋯、氧化鋯等薄膜) : 我去查了一下,好像fitting之前要做校正 : 我的試片有先做Ar預濺擊約5分鐘,所以應該是用Ar峰值做校正(242 eV) : 比方說試片(一) : 我去查了一下數據,Ar的高解析能譜圖,XPS管理員幫我簡易估了一下大概是242.612 eV : (所以我全部的數據的能峰值照理說都要減掉0.612 eV) : 可是當做完校正後(扣完0.612後),我發現試片(一)的圖要fitting時反而變得很詭異 : 所fitting出來的能峰值都跟文獻差的更遠,不校正好像還比較接近文獻值= = : (如果不要校正fitting出來的峰值位置還比較接近我搜尋的文獻) : 我嘗試過把Ar本身的能譜圖拿出來fitting,想說管理員粗估可能會不准 : 結果一fitting出來是243.25,偏了1.25 eV更多= =||| : (Ar我只放一根peak去fitting,雖然是用Ar濺擊,但其實Ar的高解析能譜圖強度也不高) : (Ar的高解析能譜的圖很粗糙(rough),可以看到很多鋸齒) : 所以...到底是... : (1)現在我是不是乾脆都不要校正直接fitting好像還比較好...= = : (2)改用碳(C 284.6 eV)去校正,可是都預濺擊過了用C校正會準嗎?? : (3)我校正方式錯了 : (4)文獻一堆人根本也忘了校正就fitting了?? : 懇求各位高手幫忙了~QQ Ar通常用來先對表面蝕刻 以降低外在環境之影響 大多以C做校正 -- Sent from my Android -- ※ 發信站: 批踢踢實業坊(ptt.cc) ◆ From: 221.120.6.193
iloveeating:Ar可以蝕刻?? 會很強的親蝕嗎 114.43.78.87 09/23 11:51