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各位前輩好: 小弟最近在濺鍍ITO薄膜時,薄膜的品質很不穩定, 同一Round的實驗中,有些鍍出來偏黃(特性差)、淡藍(特性好) 後來發現DC bias的值會隨著濺鍍時間增加而上升, 我使用的參數為50W 1 mtorr,偏壓值從128上升到142 (45分鐘) 所以猜測說DC bias值上升使薄膜沉積的品質變差? (因為DC bias的定義為正負極間施加的電場,使Ar解離) 請問各位先進, 會影響到DC bias大小的因素有那些? 感謝~~ -- ※ 發信站: 批踢踢實業坊(ptt.cc) ◆ From: 140.138.177.167
yen21:我覺得因跟果搞反了耶 111.252.155.7 09/24 20:10
pttresident:Self DC bias的話,是因電子跑比離子 1.162.65.5 09/28 15:47
pttresident:快而造成,影響它的因素大概有功率、 1.162.65.5 09/28 15:48
pttresident:壓力、材料等 1.162.65.5 09/28 15:48