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想問有關於氫氟酸蝕刻氮化矽的問題 小弟看得paper很多都寫說 HF對 氮化矽蝕刻速率很慢 但是為什麼小弟的氮化矽就被HF蝕刻假的 根本是用迅速的方式在蝕刻... 氮化矽也有200nm 以paper講的也要耐個1X分鐘吧 我不知道中間到底出了甚麼問題 還是 是小弟的認知錯誤? 麻煩有懂的人指導了 感謝 -- ※ 發信站: 批踢踢實業坊(ptt.cc) ◆ From: 140.117.165.40
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pttresident:以前用NDL爐管長的nitride真的吃很慢 1.162.89.199 10/30 23:49