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各位板有 大家好 日前 看了一篇理論計算的paper [PHYSICAL REVIEW B, VOLUME 65, 174117] [Vacancy and interstitial defects in hafnia] 這篇內容許多的理論計算 對於其中有些部份 實在不是很了解它真正的意思 [The formation of a vacancy introduces a new double-occupied one-electron level in the band gap situated at 2.8 eV and 2.3 eV above the top of the valence band for V3 and V4, respectively.] 請問各位 這段所要表達的是!? 在valence band 之上 形成 2.8 eV(V3) & 2.3eV(V4) 這兩個新的能階?! 是這樣嗎!?!? 其中 [double-occupied one-electron level] 指的是?! 對於這部份 一直想不出來如何解釋!?!! 希望各位能給一點意見!!! 謝謝各位!!! -- ※ 發信站: 批踢踢實業坊(ptt.cc) ◆ From: 175.182.52.80
h888512:一般而言band gap不會有allowed state 有vacancy後gap裡 09/14 21:34
h888512:就有allowed state 09/14 21:34
Harki:是的! 因為在HfO2結構中有O空缺所以會在VB和CB間行成次能階! 09/14 21:37
Harki:只是目前對於double-occupied~~~這一段 不是很明白它的意思! 09/14 21:38
Harki:還請各位能多給一點意見! 也謝謝h888512大喔!!! 09/14 21:38
fauna:指的應該是一個能階填了兩個電子吧 09/15 11:41
Harki:我也這麼覺得! 只是boss怕會錯意! so~才要查清楚! 09/15 12:46