[問題] 有關閘極氧化層之蝕刻

[AlanFan (小又乖乖我去上課)]

  想請問一下在一般電漿蝕刻閘極氧化層時

  由於蝕刻率不均所以造成其氧化層未能均勻移除乾淨

  這些未能移除完全的部分大概有多厚?

  或是所能容許的程度大概是多少?

  那在蝕刻製程中要怎麼判斷有無移除完全呢?

  知道的人可以告訴我嗎?

  謝謝~~

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