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為了避免離子佈植時的通道效應.. 其中一個方法是在表面製作一個非晶矽的薄層.. 請問一下利用離子佈植的方法製作此薄層所用 的離子源該選用什麼離子?三價或五價的離子當離子原有什麼差別嗎? 謝謝...^^ -- ※ 發信站: 批踢踢實業坊(ptt.cc) ◆ From: 59.113.66.13