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※ 引述《xxxorc (ABC)》之銘言: : 雖然直接這樣問很蠢 : 但想請問關於CIC提供的TN90RF晶片製作,其中的DRC要求較以往來得更嚴格 : 我的核心電路的金屬密度要通過DRC遇上蠻大的困難,若是硬要補DUMMY滿可 : 能會影響原本的電路特性,想請問有板友也有同樣的困擾嗎? 當你發現DRC很難過的時候 你可以開始考慮把那些metal layer做成ground/vdd shielding 也就是將那些layer跟gnd/vdd相連 同時圍繞"重要的信號線" 如此一來可以大幅降低該條信號線的信號受到其他信號的coupling noise 同時也把layer密度達到你的需求 舉例來說,你有一條信號線要從M1一路經由via垂直到M6 所以你在M2~M5都圍著那條線繞一圈metal,而這幾圈彼此用via互連然後連到gnd 再在這一圈外面繞一圈,通通連到vdd 如果橫向走線的話 比如你在M4有一條走線A 則你在M5及M3沿著A各拉一條平板,在M4沿著A的兩側各拉一條,然後這幾條互相連接 在把它連到vdd或是gnd去 諸如此類的技巧都可以同時耗掉密度的需求 但是同時會增加該信號線對Vdd/gnd的電容 所以你要在符合DRC之下,那一圈用最大的距離遠離信號線 因為這個結構的重點只是把該信號線與其他信號走線隔開 -- 如果你是要做商業化的產品就當我沒說 這是有美國專利的 -- ※ 發信站: 批踢踢實業坊(ptt.cc) ◆ From: 1.160.10.5 ※ 編輯: deathcustom 來自: 1.160.10.5 (01/24 22:22)
xxxorc:謝謝deathcustom的建議,您的專業我還一時無法直接套用 01/24 22:33
xxxorc:您提供的隔離信號方式可能會造成信號線對於GND及VDD產生的 01/24 22:34
xxxorc:是我目前無法估計的,或許我能使用EM軟體做更完整的分析 01/24 22:35
xxxorc: 產生的電容 01/24 22:35
xxxorc:但EM所需的時間以及可能造成特性的偏移是我最大的隱憂 01/24 22:36
xxxorc:還是謝謝您的建議,讓我打開另一個思考的窗 01/24 22:38
xxxorc:以後有機會希望還能跟您多學習 01/24 22:42
luckeboy:這也有美國專利喔 COOL~ 01/25 01:37