推 Looming:我沒記錯的PMMA是指壓克力吧 光阻?? 01/12 15:01
推 zemio:PMMA有機高分子材料...壓克力也是叫PMMA不知道成份是否一樣 01/12 15:13
→ zemio:PMMA=poly(methyl methacrylate) 01/12 15:16
推 kentcsu:pmma是單官能基的壓克力...是壓克力沒錯.. 01/13 11:37
: 我目前是想用E-BEAM寫在鋁上面
: 我要的pattern寬度大概是100nm
: 因為寫的東西很小
: 所以我有在要寫的東西的附近做一些可以讓我好對到的pattern
: 那個要要用來對準的pattern大約1um（這樣我用OM就看的到）
: 但是我卻連這個1um的pattern都寫不出來
: 我很沮喪，我寫了很多次，參數也試過很多組了
: 但是也都寫不出來
: 請問有人有寫在鋁上過嗎
: 要注意那些條件影響呢
: 請大家幫幫忙了
: 已經碩二了
: 很怕會延畢
: 謝謝
你說得很籠統，寫不出來是顯影後，看不到任何的圖像，還是，圖形狀走樣了?
如果是光阻(PMMA)太厚，你的dose量不夠大，顯不到底，但是這樣圖一定還是會出現
只是你看到的顏色不是substrate(Al)的顏色。
當然，如果你PMMA厚，dose量小的很誇張，一定是看不到任何圖樣。
如果是圖形走樣了，那你可能是聚碳渣作Focus、調像差這一步沒做好。
一般而言，普通的sem要做到1um應該是很簡單，但是，PMMA越厚，就不容易作小的
pattern，因為你為了要曝到底，得加大dose量，線寬自然變寬。
其實作E-beam主要和PMMA厚度、dose量比較有關係，只要是有導電性的substrates
應該都可以，我也曾在不繡鋼片上面作過。
還有看不到圖形的一個原因是因為你pattern的writing field和SEM的magnification
不吻合，如：pattern writing field是100*100um，但是你SEM的magnification
卻是調到2000X，而2000X下，SEM電子束能到的範圍根本沒100*100um這麼大，
你的圖形自然被縮小了，在OM(1000X)底下500nm的圖勉強看得到，如果被縮小很多，
當然什麼也都看不到。
一般近幾年Joel的sem在1000X下，配上Raith的E-beam系統，
適用的writing field大概是100*100um，除了像我們的超舊SEM得再400X下才有
100*100um的writing field，而400X下寫出來的線寬真是大到不行，整個鳥。
而sem的加速電壓，影響似乎不很大，一般大多是20-25K。
那時我們抓參數的方式是固定光阻的厚度，接下來用SEM的chess board來校正sem在
某一放大倍率下適用的writing field，譬如我們抓到SEM 400X下適用100*100um
的writing field，接下來固定用很小的beam current ~20PA，同一種圖案用不同的
dose量去測試，就可以抓去最佳條件了。
如果之前有人已經用這台機器作過，那只要上光阻的轉速相同，條件(dose量、電流等等)
用一樣的，應該試作的出來的，我們一樣的光阻、條件有做在Si/SiO2、Si、GaAs、
不繡鋼板上過...
--
※ 發信站: 批踢踢實業坊(ptt.cc)
◆ From: 140.114.20.2