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1.plasma的製程為何需要高真空? 2.判斷電漿蝕刻終止的原理。 3.薄膜製程容易有熱應力,其原理為何? 答案找好久都找不到合適的答案qq 看有沒有人知道 拜託了 -- ※ 發信站: 批踢踢實業坊(ptt.cc) ◆ From: 140.117.198.203
gtech:這是半導體製程 請看半導體製程技術導論 plsama是電漿 11/14 13:40
gtech:另薄膜容易有熱應力問題 應該是晶格擠壓 或是與基材之間問題 11/14 13:41
Looming:不同氣體分子產生不同顏色電漿,因此達到蝕刻終止層時發現 11/14 14:46
Looming:產生不同顏色電漿 通常是silicon nitirde 11/14 14:47
Looming:就知道要停了 11/14 14:47
guwon:3 應該找的道吧 11/14 17:45
fatgo:作業要自己找喔 11/14 23:21
iamrufe:不是作業QQ  謝謝摟^^ 11/15 15:41