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作者
tjime831 (James_IN (準))
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標題
[問題] 有任何機台 RIE or ICP 可進含AU的金屬,並可以etch 二氧化矽
時間
Mon Oct 6 11:25:30 2008
急問.............. 請問各位大大, 版上有人知道那裡有機台可以dry etch 6" wafer 上的 Oxide (RIE or ICP) 並且不怕"Au"汙染的機台. 國立,公司的都行. --
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