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※ 引述《ken9110 (小蝙蝠)》之銘言: : 先進們好 : 我想請問一下 : 我的晶片PAD部分用薄光組AZ1500 遮蔽後 : 經過RIE etching : 發現光阻已經變質(好像塑膠) : 透過丙酮已經不能去除 : 之前試過 塗抹硫酸(因為本身有懸臂樑 已做過超臨界 如果再泡液體 會出現黏滯現象) : 原先有想過用泡的 : 不過好像都沒用 : 請先進們有更好的方法 : 替我解決嗎 : 在不影響懸浮結構下??? 補充一下 我RIE進行有九十分鐘之久 POWER:80W 所以PR會變質 氧電漿嘗試過 不過效果沒看見 至於硫酸的方法 我會試看看(不過硫酸不是會吃PAD金屬嗎) 時間溫度 要控制多久呢? 謝謝指教 -- ※ 發信站: 批踢踢實業坊(ptt.cc) ◆ From: 123.192.174.88
Ice98:RIE打90分鐘有點久,要不要考慮分三次去打完 04/26 23:41
ken9110:謝謝 我試看看 是怕打太久溫度太高嗎 04/27 00:36
ken9110:對了 你上次提到硫酸→水→... 這個有配方嗎 04/27 00:37
Ice98:那個只是防止沾黏的清洗步驟,不過怕pad受傷就不用試啦 04/27 10:04
ken9110:謝謝 04/27 21:38