作者s75287 (彈珠汽水)
看板NEMS
標題[問題] 蝕刻問題
時間Fri Feb 12 03:10:45 2010
我現在substrate 是 glass
上面有一層ITO
ITO上面有一層 Al
我想問如果我想用濕蝕刻ITO 當我先做好第一層Al的的圖案後
我用 HCl+HNO3+H2O去濕蝕刻ITO 這樣Al會不會被蝕刻??
因為我想用 lift-off 製程作 Al圖案 所以蝕刻ITO時候 會沒有光阻
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ccfg ▊██ ˙ ▍ ▏
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◣▃▄▅▇ s75287 ◣ ▇▆▅▄▃▂▃▄▅▆▇◢彈 珠 汽 水 █◣
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◆ From: 128.97.11.107
推 kinraku:可以先蝕刻完ITO後才鍍Al嗎 02/12 22:39
→ s75287:蝕刻完ITO 怎麼樣準確的鍍Al在 ITO圖案上面...要完全依樣.. 02/13 12:01
推 kinraku:完全一樣的實驗沒做過 但我是這樣做Cu的就是了 02/14 11:03