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我想請問版上有人有用RIE的CHF3氣體來蝕刻玻璃(康寧出產的無鹼玻璃)的經驗嗎? 一般矽晶片可用這種氣體來蝕刻 那蝕刻玻璃會有問題嗎? 請版上大大指點一下 謝謝! -- ※ 發信站: 批踢踢實業坊(ptt.cc) ◆ From: 140.109.214.4
s75287:我只有用過 RIE CF4 etch oxide過.玻璃 效果應該很差 02/10 03:51
s75287:因為我的substrate是用玻璃 感覺沒有很明顯被etch ? 02/10 03:52
ybchen:你要蝕刻的深度有多少 我們是有蝕刻過<1um深度的 02/11 16:48
areckin:<1um深度是我想嘗試的,y大可否指導一下 thx~ 02/12 18:17
ybchen:主要做實驗的是學弟,不過也沒聽他們說有啥問題耶 02/19 23:52
ybchen:你是用什麼當蝕刻擋罩 我們是直接用光阻就可以了 不過我們 02/19 23:54
ybchen:是希望能夠吃出梯度的形狀 所以利用光阻蝕刻過程逐漸消耗來 02/19 23:55
ybchen:辦到 如果你要吃很垂直的邊壁 就看你的蝕刻擋罩選擇囉 另外 02/19 23:56
ybchen:我們的線寬是小於200 nm的 如果線寬粗 那一點點的梯度斜邊 02/19 23:57
ybchen:是不會感覺到的 02/19 23:57