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※ 引述《secret320 (誠..)》之銘言: : 想請問一下使用PDMS翻模(150nm寬100nm深光柵)翻印不成功 : 使用喬越的PDMS及矽油 : 製程是先在培養皿調配A劑:B劑:矽油=10:1:1(稀釋PDMS) : 並攪拌,將培養皿放入真空球中,利用機械pump抽至2*10-4torr : 持續5mins(確認無氣泡),破真空將PDMS後倒入母模 : 再利用真空球抽真空約10mins(確認無氣泡)拿去hotplate上加熱 : 80度1hr,翻印多次都沒成功,有試過在母模上利用UV-OZONE : 使之親水,發現無法拔模,不知道大家是怎麼翻印200nm以下的結構呢 : 謝謝回答的人 如果可以做silanization讓表面成為hydrophobic將會很有幫助,hydrophobic可使: 1. 母模不沾黏,容易脫模。 2. 更重要的是可讓PDMS更容易浸潤整個結構。 我曾經做過直徑150nm深1.5um的母模,在silanization後甚至不需另加壓力或抽真空, 皆可順利成型與脫模(成柱狀)。 還有要注意使用fluorosilane based chemical時要注意: 1. 先使用O2 plasma做表面處理使Si表面形成covalent bonding 2. 保持chamber的乾燥,以免水氣和silane反應 通silane的方式有很多種,我所使用的是揮發: (TRIDECAFLUORO-1,1,2,2-TETRAHYDROOCTYL)TRICHLOROSILANE 祝實驗順利 :) -- ※ 發信站: 批踢踢實業坊(ptt.cc) ◆ From: 68.232.118.110
lockq:推推推推 非常實用!!!! 03/18 23:22
Heva:可以請問一下您是跟哪家廠商買嗎?現在都買不到現貨 03/18 23:27
s75287:sigma吧...實驗室有很多這類surface treatment... 03/19 01:46
blueseas:推這篇~~ 03/21 14:15
areckin:請問打plasma是處理母膜還是處理欲轉印的基板? 03/21 20:07
Jeffch:plasma treatment是處理silicon母模 03/22 16:16
s75287:Plasma 使Si 和誰形成 covalent bonding? 03/22 22:54
areckin:那UV-ozne處理母膜可以嗎? 03/23 01:14
areckin:假若plasma也處理轉印的基板這樣有利於PDMS吸附在基板保持 03/23 01:22
areckin:膜的均勻性這樣可以讓脫膜效果提高嗎? 03/23 01:25
areckin:回S大,我猜應該是讓Si和O形成更多的Si-OH基 03/23 01:27