推 aplasmaman:問題是曝光的光罩打哪來XD 04/16 11:00
推 SkyLark2001:電子束微影啊 04/16 13:03
→ spp100:樓上正解 E-beam 直寫 免mask ^^ 04/16 13:05
推 SkyLark2001:我比較好奇電子束微影的能量夠強可顯厚1-2um的光阻嗎? 04/16 13:09
→ SkyLark2001:畢竟那些光阻還要拿來當Cr7的檔罩的 04/16 13:10
→ spp100: 1um PMMA 可寫0.2umlinewidth, pitch0.8um 04/16 13:51
→ spp100:2009年發表於.. = = 哎呀我忘了在哪 04/16 13:51
→ spp100:用20 KeV能量 0.x pA 電流 老了詳細的忘了 04/16 13:53
推 SkyLark2001:感謝回答。 04/16 15:21
推 Zoma:這成本這是太驚人了~而且四吋應該要好幾天吧~ 04/17 01:14
推 SkyLark2001:只寫在2cmx2cm不需要太久,但是這種submicron的尺寸 04/17 15:02
→ SkyLark2001:去做光罩就有困難了,蝕刻Cr/Ti不一定蝕刻很好,有了 04/17 15:03
→ SkyLark2001:光罩再去做submicron的黃光又是另一層難題...乾脆直接 04/17 15:04
→ SkyLark2001:每個SAMPLE都用電子束去寫吧 04/17 15:04
→ leeneil:如果要這樣 何不直接用EBL就好了... 01/16 13:45