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取 4" glass 一片 鍍 Ti/Cr layer 上光阻 E-beam 曝光顯影 Cr-7 蝕刻 Ti/Cr layer 去光阻 收 工 ^o^ ※ 引述《Zoma (喔喔喔~~~)》之銘言: : 請問有誰知道哪裡有再作線寬1um甚至是0.8um的光罩呢? : 學校單位包括交大~NDL~中央~中研院的規格都是2um的 : 不知道有沒有人委外作過線寬1um的光罩 : 我是想做在4吋玻璃上...但實際區域只會用到2cm*2cm : 不知道這樣收費會多少? 謝謝囉 -- ※ 發信站: 批踢踢實業坊(ptt.cc) ◆ From: 220.132.235.161
aplasmaman:問題是曝光的光罩打哪來XD 04/16 11:00
SkyLark2001:電子束微影啊 04/16 13:03
spp100:樓上正解 E-beam 直寫 免mask ^^ 04/16 13:05
SkyLark2001:我比較好奇電子束微影的能量夠強可顯厚1-2um的光阻嗎? 04/16 13:09
SkyLark2001:畢竟那些光阻還要拿來當Cr7的檔罩的 04/16 13:10
spp100: 1um PMMA 可寫0.2umlinewidth, pitch0.8um 04/16 13:51
spp100:2009年發表於.. = = 哎呀我忘了在哪 04/16 13:51
spp100:用20 KeV能量 0.x pA 電流 老了詳細的忘了 04/16 13:53
SkyLark2001:感謝回答。 04/16 15:21
Zoma:這成本這是太驚人了~而且四吋應該要好幾天吧~ 04/17 01:14
SkyLark2001:只寫在2cmx2cm不需要太久,但是這種submicron的尺寸 04/17 15:02
SkyLark2001:去做光罩就有困難了,蝕刻Cr/Ti不一定蝕刻很好,有了 04/17 15:03
SkyLark2001:光罩再去做submicron的黃光又是另一層難題...乾脆直接 04/17 15:04
SkyLark2001:每個SAMPLE都用電子束去寫吧 04/17 15:04
leeneil:如果要這樣 何不直接用EBL就好了... 01/16 13:45