推 Zoma:噴砂無敵~~ 05/07 00:45
→ Zoma:抱歉推錯 05/07 00:45
推 NCC1701:鍍鉻是為了當黏著層 05/07 03:05
※ 引述《SkyLark2001 ( )》之銘言：
: 我沒用過你的光阻，也沒鍍過100A那麼薄的 金
: 你的substrate是什麼?
SS和silicon oxide
: 你的feature size多小?
直徑5μm的圓孔陣列
: 你的bake是用hotplate還是oven?
使用烤箱烘烤
: 你用hotplate的話上面有沒有鋪鋁箔?
: 你hard bake若是用oven的話烤完後有沒有 O2 plasma RIE descum一下?
這我沒做，因為我是仿照學長傳下來的流程
: 這些都會影響黃光結果
: 基本上過期兩年就我經驗而言...無關痛癢
恩恩，謝謝，我知道了
: 黃光完之後有用高倍顯微鏡確定顯影結果是否完美嗎？
是的，有用高倍顯微鏡check過，顯影結果跟預期一樣
: 只是要dehydration的話，45分鐘太久了
: : 軟烤90度 30min
: : 硬烤120度 30min
: : 接觸式曝光機 70v 300w
: : uv照射時間4.8s
: 就曝光而言 你給這樣的數字是沒意義的，要給該機器的ＵＶ在某固定波長(如365nm)
: 下的intensity
: : 顯影時間 25s
: : 鍍上10nm的金
: 令我最訝異的是你的金下面沒有一層Cr...
這我真的不懂為什的還要鍍層鉻??
我鍍金是為了要當成長矽奈米線的觸媒
: 你鍍完100A的金之後可以肉眼分辨金的顏色有跟光阻的顏色不同嗎？
是的，可以分辨
: 放進Acetone之後震個一陣子gold layer還能survive嗎？
之前實驗室利用sputter鍍金時，發現到有金殘留的問題
改用e-beam鍍金後就沒問題了
: 講了一堆雜七雜八，基本上你可以去google
: 我google到一個南台論文也用EPG512做liftoff的
恩，這篇我也有搜尋到，所以後來有再進去黃光做了調整
: 硬烤時間只有 100C 2min.
: 我想這就是差別
謝謝大大幫忙
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