[問題]HMDS使用問題

[areckin (女王萬歲)]

我有以下關於使用HMDS的問題:

1.若在手套箱裡使用spin coater塗佈HMDS在Si wafer上

有無毒性安全上的問題?

2.可否提供適當的轉速、時間、烤乾的溫度時間嗎?

3.在後續製程會用O2 RIE去除光阻，那光阻底下的HMDS是否會連同光阻清除掉?

謝謝!


--
※ 發信站: 批踢踢實業坊(ptt.cc) 
◆ From: 218.174.111.101
推 spp100:HMDS 要在適當的腔體操作 粗真空>蒸鍍>抽氣>purge N2
→ spp100: > 抽真空 > vent > 取試片
→ spp100:不過研究生 不適用勞安法規 教授會說那一點點沒關西XD
→ spp100:我以前都是巴拉巴拉的做 現在也沒事(迷之聲:快去我敢生等)
→ spp100:                                    更正 : 趕
推 quaintness:高致癌物質 但是大家都沒在怕的 都用spin coater ○rz
推 spp100:教授 : 黃光是大門在此 給我進去 C  (菸)
→ areckin:所以我才會考慮在手套箱操作,因為我使用Chlorobenzene也是
→ areckin:也是在手套箱中的spin coater操作,氣體不會洩漏出來