推 jasonlian886:厚度可以考慮用profilemeter量比較快 05/13 15:01
※ 引述《oruchi (炙熱之夏)》之銘言：
: 手上有一台spin coater與一支光阻劑，光阻劑為日本某家不知名廠商所提供，所取得
: 的光阻劑data並未附上轉速、時間與膜厚的關係表，想請教板上的各位若是手上拿到一
: 支很陌生的光阻劑大家要如何去抓轉速與時間參數？
: 目前狀況是spin coater是新買的，我之前也未做過該機台相關實驗，上手更沒有任何
: 參數，該支光阻劑後來研究了一下，發現是主劑加上稀釋劑調和而成，在旋轉過程中
: 稀釋劑會揮發，因此不知道該如何是好，希望有經驗者能提供一點抓參數的訣竅、感謝！
其實不是很了解你的問題，想要抓什麼參數?
其實世界上大部分的光阻都沒有所謂的標準轉數參數
你多看幾個不同光阻的datasheet你就會知道了
很多光阻只會跟你說在幾千轉的時候厚度是多少
比方說3000 rpm的時候是 1 um，
比較更精確的會跟你多講一個3000 rpm轉 30秒是 1 um
所以前面spread 的參數你就自己用習慣的
比方說我都習慣用SU-8的datasheet給的 500rpm, 100rpm/s, 5s,
然後spin的參數就再用 3000rpm, 300rpm/s, 30s
上面兩行數字中真的只有第二行的3000rpm 以及30s才是影響厚度的主因，
剩下四個數字真的是自己爽，不要差太誇張就好。
這也表示其實跟spin coater沒有太大差別。
同樣參數的話，不同機器轉出來的厚度理論上也是差不多的。
變因中最大的大概就是spin coater開蓋閉蓋了
以上適用於一般(1-數microns)厚，厚度誤差幾百nm不痛不癢的光阻
太厚的話有一些其他技巧要考量(比方edge bead remove)
太薄的光阻(誤差幾百nm會死)的我沒做過。不過根據你的敘述，
我擔心你的光阻是這種薄光阻
至於測膜厚還不簡單，若不能顯影的話
版友提供的SEM若是嫌麻煩或不方便的話，wafer邊緣貼一個
膠帶，轉完烤完撕掉膠帶量高度差就可了。
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