※ 引述《dsd (破碎虛空)》之銘言：
: 目前想製作1mm之SU8結構，發現已有團隊發表，他們將軟烤溫度升至120度，曝後烤降至
: 65度，我目前使用膠片光罩製作直徑20多微米之洞陣列，還未有滿意之結果，是否該換
: 成玻璃光罩呢，另外，加熱時用烤箱是否較合適，不知是否有人有實作經驗可以指教，
: 謝謝。
http://memscyclopedia.org/su8.html
這個網頁看一遍，會很有幫助
網片的部分先不講，厚SU8用oven是一個忌諱
Oven跟Hotplate相比， Oven優點是溫度均勻，可以確保substrate上所有的部分
都是你想要的溫度，但缺點是溫度是由表面而內。
所以厚SU8一放進Oven, 表面的溶劑會先蒸發掉，表面開始固化，鎖住裡層的溶劑
造成裡層的溶劑無法蒸散出來。
Hotplate的優點是由底層開始由內而外，底層的溶由劑先蒸散後才是表層的溶劑。
但缺點就是往往表層的溫度跟hotplate的設定溫度有不小差距，對於一些對溫度很敏感的
光阻不易控制溫度。或是一些substrate導熱較差的材質如玻璃等就要再另試適合的
hotplate設定溫度
有些製程小技巧是兼具兩者。先放在hotplate上"數分鐘"讓底層的溶劑蒸散後
再放進同溫度的烤箱中維持大環境的溫度一致性。往往有不錯的效果
回歸正提，SU8的黃光製程不建議用烤箱，這是MicroChem的datasheet中明文建議的
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