Re: [問題] JSR 151N曝光顯影後圖形表面變得粗糙

[SkyLark2001 ( )]

※ 引述《jeffdon2 (kkk)》之銘言：
: 最近在嘗試使用JSR 151N來定義流道圖形並且加熱接合的動作，可是曝光顯影後
: 卻發現光阻的表面變成霧面，更詭異的是霧面的圖形是只有在被乳膠光罩覆蓋的區域
: 出現，其他沒被光罩覆蓋但是有曝光的區域都沒有這情形，不知道有用過JSR 151N
: 的人是否有相同的情形?
查了一下這是三星的負光阻
所以發生這種情況很正常
曝到光的區域進行 crosslink所以會留下，沒曝到光的區域會被顯影液wash away
現在的問題是沒曝光的地方沒被顯影液移除，只有約略被侵蝕出現霧面，所以可能是

1. 顯影液太稀或藥效不夠
2. 顯影時間不夠
3. soft back or PEB溫度太高或時間太長

--
※ 發信站: 批踢踢實業坊(ptt.cc)
◆ From: 128.95.165.23
※ 編輯: SkyLark2001     來自: 128.95.165.23        (09/16 07:37)
推 jeffdon2:SkyLark2001大可能弄錯我的意思了
→ jeffdon2:被乳膠光罩覆蓋的區域是指被覆蓋但是有透光的區域
→ jeffdon2:和沒被光罩覆蓋曝光的區域相比之下是霧面的情況
→ SkyLark2001:我大致懂你的意思，但我的疑問是，你的光罩比wafer還
→ SkyLark2001:小?不然怎麼會有所謂"沒被覆蓋但有曝光"的區域
推 jeffdon2:沒錯，就是光罩比wafer小
→ jeffdon2:結果發現光罩可透光區域下的光阻顯影後表面霧化
→ jeffdon2:但是其他沒被光罩蓋到而同樣有曝光的光阻卻是亮面的狀態
推 quaintness:4.乳膠光罩  光罩可透光區域用OM看應該會有小顆粒?
推 jeffdon2:這樣是表示乳膠光罩的品質不良，還是無法避免?
→ jeffdon2:重新做光罩有用嗎?
→ jeffdon2:因為要做熱接合的動作最好一開始兩面可以越平貼越好
→ jeffdon2:表面太粗糙會導致接合效果不良或加熱時間較長導致流道
→ jeffdon2:變形