[問題] 光阻無法均勻塗佈

[bank00177 (康康)]

      各位板上朋友大家好   想請教一些光阻的問題


   最近老師拿了兩瓶新光阻要我測試殘留層跟蝕刻選擇比，
可是光阻很難均於圖佈在PDMS上。試了很多參數，也在Sapphire上塗了HMDS
光阻的DATA寫400RPM 5秒 XRPM 20秒 也改了很多轉速的參數，但還是無法均勻塗佈在
PDMS上面





  請問各位有甚麼意見可以提供嘛   THANKS!!!!!!

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◆ From: 140.135.97.163
推 lockq:先氧電漿處理一下pdms表面吧
推 ipigfoxi:打O2不是增加附著力而已嗎?
推 balaboo123:打O2可以使表面改質成為親水性 這樣會攤得比較平
→ jam46:請問打氧電漿, 如果會增加附著力的話, 會讓顯影變的難顯嗎?
推 Evences:打電漿->親水 但一般塗底處理不是應該越疏水越好?
→ Evences:原PO的不均勻是指甚麼層級上的不均勻 microscale?肉眼?
→ Evences:我的意思是PDMS原來就是疏水 附著力應該還可以?(推測)
→ Evences:若附著力還可以 那不平整是不是來自PDMS原來的不平整?
→ Evences:或者你轉速根本不夠高? 建議把光阻類別PO出來 好討論
→ Evences:以上是個人經驗 希望有幫助!