→ jamesII:烤太久乾掉? GOOGLE是115C 60S try 105C 120s for liftoff 02/27 18:29
推 SkyLark2001:可放進硫酸加雙氧水中，短時間(數分鐘)內不會對你的金 02/27 20:39
→ SkyLark2001:有顯著影響。或是使用專門溶正光阻的熔劑比方EKC830 02/27 20:40
→ SkyLark2001:加熱使用效果極佳 02/27 20:41
→ capsss:謝謝樓上二位 但是因為我的結構中有SiO2 不大適合放硫酸加 02/27 22:31
→ capsss:雙氧水 另外如果不烤這麼乾我好像曝光的時後 光罩一壓上去 02/27 22:31
→ capsss:繞射條紋就變很多 因位我還要第二道同樣圖形對準 02/27 22:32
→ capsss:我怕在Wafer下面墊上濾紙會使得對準不準 02/27 22:33
我比較看不懂推文是什麼意思
不過在不改變黃光參數的前提下，扣掉Acetone，清除光阻的方法有以下幾種
乾式:
1. RIE O2 plasma clean
2. Barrel Asher, 也是屬於以電漿方式燒掉光阻的乾蝕刻
濕式
3. 市售正光阻清除溶劑，如 EKC830以及AZ 300T，加熱使用，效果比丙酮加
4. Piranha (硫酸加雙氧水)，會在表面產生薄氧化層，稍微在HF中dip一下即可去除
5. 第五種是來亂的，因為我只有聽說但半信半疑，那就是放進高溫爐中，一樣可以
把光阻燒成灰。
--
本球隊一切依法行政，謝謝指教。
--
※ 發信站: 批踢踢實業坊(ptt.cc)
◆ From: 128.95.165.23
※ 編輯: SkyLark2001 來自: 128.95.165.23 (02/28 16:10)
推 endlessbbs:第五點感覺會炭化更難去除XD 02/28 18:24
推 pttresident:第5點 XDDD 02/29 12:06