推 quaintness:1um應該做不出來 換個lift-off光阻 否則機會很小 05/21 02:18
→ SkyLark2001:那一部分，有機會可以解決你的問題 05/21 16:23
感謝前面幾位的分享
其實塗這麼多層目的是為了lift-off
然而依先前的經驗來看
s1818顯完剩下結構會呈現上窄下寬的梯形
導致後續沉積金屬lift off後，線路兩旁留下不必要的side wall
這些side wall若要全部震掉，我的線路也會受損
問過一些技術員，大家都說正光阻就是這樣，塗愈厚愈明顯
老師一樣不能接受@@a
目前想法是增加曝光秒數，但可能要犧牲一點線寬精準度
請問有人用s1818做過較深的垂直結構嗎?
我的最小線寬是3um，金屬鍍層約1um
光阻深寬比若能有0.8~1就很不錯了
※ 引述《Jinuse (積極 努力 )》之銘言：
: 完全同意前面的文章
: 跟你分享一些作製程的經驗
: 如果可以直接只用厚光阻旋塗一次來取代的話
: 當然是最好的方法 厚度跟轉速會有最可靠的關係
: 如果不得已要做疊層的話
: 就要看光阻的特性
: 經過軟烤以後因為溶劑跑掉
: 光阻的表面特性已經不是原來那個樣子
: 通常會根本塗不上去 或是塗得破破爛爛的
: 之前因為不得已要塗兩層AZ P4620
: 方法是旋塗 軟烤 HMDS 旋塗 軟烤
: 厚度會比較接近理想中的樣子
: 我沒用過S1818
: 不過你可以試看看我的方法
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