小弟最近正在是1um的曝光
可是結果不盡理想
小弟的參數如下
機台的曝光強度12mW/cm2
使用NR71-1500PY的光阻
基板為鈮酸鋰基板
1.清洗後烘烤90度10min
2.塗佈 500rpm 10s 4000rpm 40s
3.軟烤 90度 10min
4.曝光16s
5.顯影液與水比例3:1 顯影時間12s
有一部份因為所設計的較為密集
試了很多種參數都無法完成 用om看都是黏在一塊的
想問看看有沒有什麼方式能夠改善 再麻煩了 謝謝!!
--
※ 發信站: 批踢踢實業坊(ptt.cc)
◆ From: 120.107.167.215