我使用負型光阻SU-8 GM1040的參數，我的基板是玻璃
spin coating step 1 1000rpm/10sec
step 2 8000rpm/40sec
soft bake 65度/10min
95度/15min
expose 8sec
post expose bake 65度/10min
95度/15min
developer 使用PGMEA 時間 1min~1min30sec
異丙醇 時間 15sec~20sec
hard bake 135度/1~2hr
我要顯影線寬1um，週期2um的柵欄式的圖型
線寬5um，週期10um跟線寬10um，週期20um的圖形都沒問題
請問我該去改哪步驟的參數呢?
--
※ 發信站: 批踢踢實業坊(ptt.cc)
◆ From: 140.117.232.110