推 tengyuan:恩恩 我了解了 感謝!!! 10/13 23:01
不知道你的基板是否一定要用玻璃?
根據我們做了一些實驗的經驗
玻璃上面製作SU-8結構，小線寬通常都會出問題
我沒有去找文獻之類
根據我們自己猜測的想法，底部是玻璃的時候
紫外光穿透玻璃折射，再透過底部反射回來，
會導致不是patten位置的SU-8被曝光到
所以小線寬的情況，可能就看不到結構成形，因為所有SU-8都被曝光了。
幾個方式可以驗證，
SEM觀察你所製作的5um線寬的結構，是否跟光罩設計尺寸相同，
若有反射曝光的情況，理論上線寬會變大。
改善的方式，我覺得將基板換成Si wafer可能可以解決。
※ 引述《tengyuan (tengyuan)》之銘言：
: 我使用負型光阻SU-8 GM1040的參數，我的基板是玻璃
: spin coating step 1 1000rpm/10sec
: step 2 8000rpm/40sec
: soft bake 65度/10min
: 95度/15min
: expose 8sec
: post expose bake 65度/10min
: 95度/15min
: developer 使用PGMEA 時間 1min~1min30sec
: 異丙醇 時間 15sec~20sec
: hard bake 135度/1~2hr
: 我要顯影線寬1um，週期2um的柵欄式的圖型
: 線寬5um，週期10um跟線寬10um，週期20um的圖形都沒問題
: 請問我該去改哪步驟的參數呢?
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