[問題] su8 100 厚度

[nasa01 (123)]

想請問一下

使用su8 光阻 (有用100  50  3050)

實驗都照參數走

以SU8-100為例

150 um厚度

     500轉 30秒
    2000轉 60秒

軟烤  65度 20min
      95度 50min

冷卻

曝光   500mJ/cm2

曝後考  65度  1min
        95度 12min

顯影


製作好母模去量都是70um~80um

參數也是上網查的

請問一下哪邊環節出了問題?  做了好幾十次都會厚度不足


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※ 發信站: 批踢踢實業坊(ptt.cc) 
◆ From: 203.64.97.123
推 SkyLark2001:既然都上網查了，為什麼不用microChem的官方參數？
→ SkyLark2001:我看你的軟烤時間以及spin 60秒就知道這不是官方參數
推 SkyLark2001:http://microchem.com/pdf/SU8_50-100.pdf
→ SkyLark2001:光阻厚度取決於spin cycle, MicroChem一律都是轉30S
→ SkyLark2001:所以我會選擇用1750rpm轉30S，再針對轉出來的厚度
→ SkyLark2001:增加或減少。至於table1跟fig1顯示還不一樣，你可以
→ SkyLark2001:2000 rpm跟1750 rpm都試試看
→ nasa01:參數是這個pdf沒錯，還是我看錯了?
→ nasa01:即使是圖一，也是100um,可是我的都是70-80um
→ nasa01:所以是，300轉30秒，1750轉30秒??