[問題] 請問各位顯影時的問題

[fukjohn5566 (法克.約翰)]

各位學長姐好

最近在做光蝕刻

用的光阻是正光阻AZ P4620

在wafer 上旋轉塗佈完厚度約8 um

想請問一下各位在顯影時是會固定晃動sample

還是靜待顯影時間到再一次拿起來?

因為兩種作法都有聽別人講過

不清楚哪種比較好? or 各有優缺點

感謝大家的心得與指教

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→ tommy90644:晃動顯比較快吧!
推 skyghostlove:我是靜置在顯影液中,時間到再拿起,我光阻厚度為2um的
推 skyghostlove:搖動晃置是對於厚光阻我才會使用,如su8,顯影時就要快
→ skyghostlove:速搖晃,比較顯的乾淨
感謝大家解答!!!
※ 編輯: fukjohn5566 (114.47.37.141), 08/03/2014 19:56:11
→ tommy90644:az4620我也有用 我還是覺得搖動顯得很乾淨
→ bbdd203: 晃動  因為不晃的話會過顯 profile不好 顯過頭會圓邊
推 Jinuse: 晃動+1
推 a876352000: 晃動顯比較均勻
推 wgjfish: 先靜置一段時間再搖晃 時間是自己要去試的
→ wgjfish: 但晃動也是有技巧 那時候我做的時候晃太大會容易過顯
→ i21099: 可以先靜置幾秒，再晃動看看