[問題] 193 及 248 nm 光源

[frank0910 (fery)]

請教各位
老闆要小的去了解 上述 2 個光源
想做奈米結構的光阻曝光, 因為完全不瞭解希望能幫幫忙

  要做的是線寬/線距=50/50 nm ....

  1. 是否是要使用ArF or KrF 的Laser光源製作
  2. 網路上哪有關於 ArF or KrF 光源的基本介紹
  3. 這種光源大約會要多少錢呢？
  4. 使否要使用特殊光罩搭配
  5. 台灣找得到代理這種光源設備的廠商嗎？


抱歉, 問題或許比較幼稚也可能有觀念上的錯誤, 希望大家指教
謝謝

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推 jeffdon2: 248nm光源的曝光機不一定是用laser，用汞燈在去過濾
→ jeffdon2: 這個波長範圍出來也是OK的，南部NDL就有248nm的曝光機
→ jeffdon2: 至於你的線寬50nm.....，這要用EBL作了吧XD
推 SkyLark2001: 這兩種波長尤其193基本上就是現在半導體製程黃光
→ SkyLark2001: 的主力。基本上你要用投影式的曝光機幫你做50nm，除
→ SkyLark2001: 非你可以找的到50nm線寬以下的晶圓廠幫你代工，不然
→ SkyLark2001: 設備是一般人買不起的。所以如同J兄所言，請愛用EBL