Al的蝕刻

[cleverjalin (^^)]

施敏的半導體元件物理與製作技術那本有喔
第644-645頁

4   ml HNO3
3.5 ml CH3COOH
73  ml H3PO4
19.5ml H2O
溫度30-80

etch rate = 30 nm/min

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◆ From: 140.112.171.72
→ cleverjalin:646頁有王水耶~~~真的是1:7