感謝李允立和黃建彰教授 ^_^##
以下為李允立教授的傳授~~~~
n-type(實際上是他們叫mesa)
不用吃那麼深.....大概0.5-0.6 micrometer即可
吃到1.2 micro 一定會焦掉 而且一定去不掉.....他們以前也是這樣..
真的一定要吃1.2 micro時....
ICP-RIE 要分段打.打兩分鐘 休息兩分鐘..光阻才不會加到太熱而焦掉
至於mesa 正確來說是 "isolation"
要看 forward voltage 時 一定要isolation
不做isolation的折衷方法
就是除非我們能切出一個獨立的LED (他不相信我們的切功可以那麼好)
一個試片上 只有一個p-電極 和一個n-電極 也可以
工業上是300x300 micro 那個
用烤箱不好....最好用hot plate 110度 1 分鐘 .....
(但不確定是否一分鐘夠厚..但如果烤太久...光阻也會去不掉)
黃建彰的學生 不知道是用烤箱還是 hot plate
不需要加HMDS
清洗光阻的方法有很多種 其中有一種類似KOH...叫啥sxxxpy的...
至於isolation
要用hard mask
用PECVD 長SiO2
吃2.5mico 大概要長 4-5micro
結論1:李允立老師是好人 而且很喜歡教學生..有問題可以去請教他
結論2:黃建彰老師也是好人...還馬上回信給老闆問我們想要的結構是哪一種的
結論3:李允立老師說....晶圓光電的那個人 應該是太忙
不然他會直接說 無法再提供給我們
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