作者wen826 (無可救藥)
看板NTUEOE_R306A
標題Re: 元件chamber
時間Thu Nov 19 19:15:13 2009
這篇要講的是關於目前實驗的一些規則:
1. 我們現在用W舟鍍鋁,大概鍍個2~3次就會有W舟斷掉的風險。
小宏建議在chamber裡面放兩組鋁的source,
一組斷掉了就換另一組鍍。免得辛辛苦苦鍍完有機都白費了。
所以現在我們固定在source2的位置放[優先使用的鋁source],
在Source1的位置放一組[備用的鋁source]。
原則上都用source2的那個鍍,如果斷掉不得已才用source1。
斷掉後放sample進去時,記得再把好的換到2,在1放備用的。
2. 雖然之前已經請大家幫忙校正過厚度了,
但是可能由於profiler不準,或者實驗的誤差,或者坩鍋角度問題,
校正出來的比率可信度可能不高。
在此建議大家,現在作元件的時候還是用1的比例去做,
做完實驗量完data也請順便去量profiler,
建立一組"讀出厚度"與"鍍上去厚度"的數據資料庫。
我們收集越多這個資料,校正出來的厚度可信度也就越高。
3. 還是厚度的問題。
由於我們現在的source位置較分散,離sample也較近,
坩鍋鎖的位置、角度不同都可能會影響鍍上去的比例。
所以我們就固定把最常用的兩個source NPB和Alq分別放在source8以及source7。
現在應該已經各鎖一個大坩鍋上去了。
之後做實驗就不要再動到他們,source沒了,直接用長湯匙舀粉末加進去,
不要把整個坩鍋拿出來,以免重鎖的時候位置又變了。
4. 最後是一些小事情。我不確定是不是每個人都知道了,所以再提醒一下。
(a) 做完實驗要再等他抽氣10-15分鐘才vent掉,
不然那些鍍出來的材料跟Al都還殘留在腔體裡,一開門就通通都跑出來了。
這點其實跟我們之前的chamber一樣,但是好像有些人忘記了^^"
(b) 開RV粗抽腔體的時間請盡量縮短,
因為關掉FV後,turbo端就沒東西抽也沒地方排氣了。
最好人在附近顧著,抽到你想要的氣壓就轉回去FV。
(c) 目前是建議大家沒做實驗的時候就把空壓機的出氣口關掉,
冰水機的cooling也關掉(power不要關),以減少噪音跟廢熱。
所以開始做實驗的時候要檢查一下這兩項有沒有開。
(d) 實驗室的chemical hood可以做清洗sample的流程了,
但是我好像還沒跟大家說怎麼用。
下一個清sample的人可以找我學,這樣就不用去無塵室待一個多小時了。
(e) 老師上次meeting有說,最近作實驗的時候要放兩片sample,
一片用無塵室的UV Ozone處理,一片用我們自己的UV Ozone處理,
有作元件的人不要忘記這件事了。
不會用我們的UV Ozone的話,請找我或小宏學。
(如果美杏或維宣有空的話也可以直接找他們學)
§ 最近是新儀器上路黑暗期,請大家多多包涵,通力合作,
早日走向畢業的康莊大道,共創美好的未來,謝謝:)
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※ 發信站: 批踢踢實業坊(ptt.cc)
◆ From: 218.35.19.214
※ 編輯: wen826 來自: 218.35.19.214 (11/19 19:16)
推 sunsunsunn:字字血汗啊!辛苦了!! 11/20 00:14
推 willhyper:4(a)妳可以說:氣體跑出來,你就少活一年了,請珍惜身體 11/20 09:18
推 blueblanket:辛苦了~~ 11/20 10:54
推 avocado:辛苦了~~~~~~ 11/20 11:56
推 huppychen:打那麼多字, 用心良苦阿 :) 11/20 12:47