[元件] 數據討論結果

[wen826 (無可救藥)]

感謝剛才做元件的幾個人一起討論這禮拜以來的數據，
整理一下大家的說法後，目前有幾個結論：

1. NPB及Alq3的厚度變厚了，但是應該沒有變很多。
   澄鴻的MoO3實驗中，700/700比以前的800/800大
   小宏的K2ph800/800比以前的600/600小一個order，但是曲線是正常的

2. Chamber的厚度應該算穩定
   小宏4/9做的LiF標準元件和舒涵4/3做的LiF標準元件差異在一個order以內

3. 可能是LiF有問題
   小宏有整理三組data，放在FTP/報告放這/元件Chamber相關裡。
   三組Data分別為:

 日期    結構
 4/3     O 舒涵的標準元件
 4/7     A 以K2ph為EIL    A2 沒有EIL
 4/9     B 以LiF為EIL     B2 沒有EIL

發現A組中，A比A2好很多。而B組中B只比B2好不到一個order，且B和O相差不大。
此外兩組沒有EIL的元件A2和B2的差異也很小。

根據以前實驗的經驗，加入LiF會使元件電流上升一個order以上，
因此懷疑是LiF的問題。
(若是LiF的問題，也可以解釋為何舒涵加1nm C60會使電流提升這麼多)


目前我們可以進行的方向是:
1. 校正厚度
2. 換掉LiF試試看是否有改善。
   也有可能是換了膜厚儀的位置後導致現在LiF厚度差太多，
   但是厚度差異應該不會使電流變化這麼大就是了@_@。


歡迎大家提出不同意見一起討論:)

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※ 發信站: 批踢踢實業坊(ptt.cc) 
◆ From: 140.112.175.52
推 proactivity:ok 這星期日  我換LiF 並做NPB校正
→ wen826:昨天已經請家偉幫忙換新的LiF了  麻煩你再測試一下囉:)
推 momoSUM:家偉做完好像忘記抽真空了,提醒一下XD