[研究] Next-Generation Lithography

[yellowfishie (喵喵喵喵~~~)]

上次去參加新竹的 VLSI-TSA, 聽 tsmc 林本堅主持的 Next-Generation Lithography
(NGL) session (王廷基教授也有去聽), 講的很精采,
session 中歸納了未來 NGL 的主要 candidates 有三項:

1. CR-DPT (cost-reduction double-patterning technique)
2. NIL (nano-imprint)
3. MEBML2 (multi e-beam maskless lithography) + CR-DPT

每個都有各自的優點和挑戰, 而 MEBML2 的技術是目前最可行的方案,
給大家參考 :)


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