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作者
landau0426 (事事順心)
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標題
[問題] wafer clean
時間
Thu Aug 27 14:38:01 2009
想請問ㄧ下 silicon wafer經過標準程序的清洗 丙酮...甲醇...DI...硫酸+雙氧水(3:1)...DI...BOE 要如何確認有清洗乾淨 聽有人說好像滴水上去,看看會不會殘留 有什麼方法可以確定乾淨 或是還有什麼標準清洗程序 謝謝 --
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