[問題] 有機 torsional strain 與 steric stain

[cestlavia (cestlavia)]

題目 http://imgs.cc/image/r6k1J23#.UadIF0AybbA

我的問題是 第6題選 B 是torsional 的關係
那第七題為什麼要選 II是比較多steric strain 而不是more torsional strain
以下是我查到的東西 但不懂如何運用

1.torsional strain(扭轉張力):兩個相鄰原子的取代基鍵結電子對在空間上的排斥
力.需用Newman projection來判斷, eclipsed是指兩取代基完全相對(夾角0度),
扭轉張力最大(2.9kcal/mol);staggered是指兩取代基完全錯開(夾角60度),扭轉
張力最小(0kcal/mol);其他角度則沒有特定名稱,扭轉張力介於兩者之間

23.steric strain又被稱為凡得瓦排斥,是因為兩原子(團)的電子雲互相排斥.與國中
所學的庫倫定律中同性相斥的道理相同,所以兩原子(團)在空間上的排列會盡量
錯開.例如椅形環己烷上的大取代基總是在equiatorial(赤道向)上,以增加兩個取
代基在空間上的距離

煩請高手解答 謝謝

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◆ From: 219.84.247.216
※ 編輯: cestlavia       來自: 219.84.247.216       (05/30 20:46)
→ senonno1:因為第七題兩個結構都是stagger,但前者是anti,後者是gauc
→ senonno1:h,Gauch結構上有兩個甲基基團的排斥,誠如上面名詞解釋,st
→ senonno1:eric strain又被稱為凡得瓦排斥,是因為兩原子(團)的電子
→ senonno1:雲互相排斥,故選擇steris strain
→ cestlavia:所以steric是用來比較在anti與stagger時原子團的關係？
→ cestlavia:是這樣嗎？因為夾角度一樣 就是原子團的差別
→ senonno1:可以這麼說,因為steric就是用來比較''基團''間的排斥關係
→ cestlavia:謝謝senonnol~~我懂了 開心