Re: [問卦] CPU時脈是不是已趨近極限

[kng (風中之竹)]

     上訴許多高階製程已經細部分工  各領域專業又因為製程不同專業不同

     我只能概論將所知提供  moore (摩爾定律)目前如上訴所提已經漸漸發展到瓶頸

     而各大半導體研發的分歧在於微影使用上  目前 immersion lithography

     (浸潤式微影) 為主流  但在許多半導體廠跟KLA認為 extreme ultraviolet(EUV)

     與 Direct-Write E-Beam (直接寫入電子束) 未來將取代immersion lithography

     才能延續moore到22nm 以下的世代  但這極燒錢又未知的轉變 目前有INTEL TSMC

     在研發  而LOW-K 上TSMC與NXP 研發使用的為CMOS LSI所發表材料為Black Diamond

     對於22nm 以下世代 未知數又增生不少  INTEL IBM TSMC 都無法確認

     moore能延續到何時 而EUV,Direct-Write E-Beam 能否替代 immersion lithography

     還有問題目前 Black Diamond 材料是否下一世代能適用作為 LOW-K上

     這又是一堆問題  因此未來的半導體沒有如  Intel TSMC  有大把資金

     將各套系統擁有並研發成功至下一世代0.07nm分界點 除了半導體廠的生存

     科技技術差距將大幅度停滯  各種發展將可能停頓下來

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                    當歌曲響起,那令人心碎的情歌
                    那傷人的詞,多麼的刻骨銘心~
                    獻上首歌,給喜愛的你....
                    當旋律響起,你我在樂中起舞
                    曲終人散,留下的只有記憶....     

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※ 發信站: 批踢踢實業坊(ptt.cc) 
◆ From: 114.32.239.112
→ jarry1007:這一塊我很久沒碰了
推 silentgiant:嗚 我勉強看得懂...
→ haiang0612:Done..專有名詞太多..略過
→ wyvernlee:快推，免得被笑看不懂!!
→ startlequiet:這時 V大師有話要說
推 a8330028:我只是設備 (遮臉)
噓 andy3580:快噓 免的被笑看不懂
推 harry901:阿鬼  你還是說中文吧   >.<~~~~
→ Double2:好多東西看不懂 不過至少有最後幾行回覆到標題
推 momocaca:恩~原來如此~
推 eipduolc:傑瑞今天有失水準
噓 widec:這係咧寫殺小
→ midas82539:你在說中文嗎??
推 pippenjr:沒錯  我也是這麼認為
→ tony121010:傑瑞最近戰力衰退嚴重
噓 rei410553:看不懂 可以說重點嗎
→ Reddick5566:完全看不懂(／‵Д′)／~ ╧╧
推 seven32:  這要修過半導體製程才看的懂
→ startlequiet:說真的 套一大堆名詞唬人 感覺沒有上一篇威
→ tasogare:嗯....說的沒錯.....
推 mike1990:一樓傑瑞耶!!
推 QUIKSILVER:看不懂 就說唬人 ＝ ＝
→ widec:重要不是名詞太多 是中文有夠爛...
→ seven32:  寫的不錯阿 EUV跟e-beam的確是未來趨勢
推 penguin0725:沒錯就是這樣                              我也不懂
→ startlequiet:QUIKSILVER你看的懂你來解釋 (丟筆)
推 riker729:上述
→ feartis:原PO你是要上訴什麼啊...
推 pttresident:e-beam產出量是個問題；EUV整套系統貴死人
推 Pash77:上一篇後來沒解釋，為啥多核心跟 bonding wire 有關係?
推 clanguage:材料的關係阿 不然太快過熱難解
推 vicks:白癡  這些我國中就知道了
→ KimoG:大意就是 要縮小線寬  光罩改用e-beam 但現階段太貴 (完)
→ f1234518456:技術開到底拉 大家可以回家啦
推 kuanun:改用e-beam 慢到爆……而且e-beam 的size不是那麼好控制
推 lwei781:看不懂的 想想光線繞射
推 xiemark:沒有人用。
推 melu:啥?維大力!?