這個星期接到顯影液廠商通知要漲價了

我們光阻使用的是AZ 5214、4620

顯影液用Dow chemical 的 MF-319與MP-351

其漲幅分別為+30%與+175%(是的，你沒看錯!!)

由於漲的太離譜了，我想要尋找合適的替代品

就我所知，基本上319與351都是以TMAH為基底，配上NMP溶劑稀釋

想請問的是，對於1um~sub um的光柵結構

若用TMAH 2.38%加水稀釋來充當顯影液是否行得通，還是需要以NMP來穩定化性?

若是用水稀釋不可行，由於TMAH有神經毒性，NMP也不是好惹的

我比較傾向購買請廠商調配好TMAH+NMP的配方

或者，有其他款的顯影液可用於AZ系列光阻

若板友有甚麼樣的建議，還請指教，

Thanks
※ 編輯: Colula          來自: 111.251.230.31       (05/02 00:51)
推 bbdd203:4620 我用過臺公司的EPD-1000 跟AD-10 都是TMAH 2.38%
→ bbdd203:也是蠻便宜的  不過沒顯過1 micron以下過
推 SkyLark2001:你們做的不是電子元件所以4630用 AZ400K就可以了
→ SkyLark2001:對水稀釋1:4，用量還算省
→ SkyLark2001:第一句打錯，是4620不是4630
→ Colula:想請問一下s大,我們是作光電雷射半導體的,若將4620用水
→ Colula:用水稀釋後,有可能的影響為何?尤其是作Grating光柵結構,Thx
推 SkyLark2001:你是要問AZ400K顯影液吧吧？AZ400K含鉀離子，一些MOS
→ SkyLark2001:元件要避免用這些含離子的顯影液。你的元件看有沒有差
→ SkyLark2001:沒差的話，AZ的光阻用AZ公司的顯影液，再合理也不過了
推 SkyLark2001:幫你查好了，你用的MF319是強調metal-ion-free的，但
→ SkyLark2001:MP351不是，是氫氧化鈉based含有鈉梨子，所以若你可用
→ SkyLark2001:MP351,那當然可用AZ400K
→ Colula:非常感謝S大的回覆,讓我學到很多,我之前還以為MP351與MF319
→ Colula:同系,只是濃度不同，忽略了鉀離子及NaOH base, Thanks