推 flysonics:....................史密斯毒中太深了嗎= = 12/25 19:33
推 Tobeyla: Source Gate Drain 12/25 19:38
→ Tobeyla: ○ oxide ○ metal ○ 12/25 19:38
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→ Tobeyla:│ substrateψfridayjason│ 12/25 19:38
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推 natas321:這是啥呀^^|| 12/25 19:39
→ Carmelo3:..........高中物理近代物理最後一章 12/25 19:45
→ azurewind: Source Gate Drain 12/25 19:56
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→ dosa740612:mos FET? 12/25 19:57
推 wwwea:........................................................ 12/25 19:58
推 pphank: Source Gate Drain 12/25 19:58
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推 pphank:這不會考吧...啥洨截止電壓...blablabla...打混的電子學... 12/25 20:00
推 Ok303:高中的電子學 XD 12/25 20:21
推 fridayjason:囧 為什麼我的作品會出現在這裡....= =||| 12/25 20:41
推 tdk4:I=0.5uCoxW/L (Vgs-Vt)^2 when operate in saturate region 12/25 21:12
→ PTTccGod: 金氧半場效電晶體??? 12/25 21:14
→ PTTccGod: Source Gate Drain 12/25 21:15
→ PTTccGod: ○ oxide ○ metal ○ 12/25 21:15
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推 pphank:苦主出現了....XD 12/25 21:21
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推 kk123:Bulk 端不見了 o(‵▽′)o 12/25 21:28
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