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個人目前擔任IT相關工作, 雖然系統設計期間經常接觸到半導體相關知識, 但無緣進入Feb一觀,始終沒有一全盤了解. 最近讀了 圖解半導體 一書,想來個大哉問,請各位指教 1.半導體從上游空白晶圓的製作,過程包括長晶,切片, 氣相(gettering),圓邊,鏡面研磨等過程後完成, 其晶圓品質如何判斷?平坦度?結晶度?or 其它? 2.同上題,中下游的光罩,蝕刻,切割,封裝,測試等步驟, 除良率以外,該如何判斷其品質優劣? 3.wafer所謂的幾P幾M幾L屬性,是在光罩蝕刻階段決定的嗎? 4.品質提升指的就是針對機台上的參數設定嗎? 以上謝謝. -- test -- ※ 發信站: 批踢踢實業坊(ptt.cc) ◆ From: 221.120.64.229
UniFish:第四點的問題太大了...概括來說..也不能說你錯XD 01/30 19:58
onlychan:建議買書來看,這些問題要回答太多了 01/30 21:23