名詞解釋：ＮＦ３
王仕琦
三氟化氮 （NF3）在半導體及TFT-LCD製造的薄膜製程中扮演「清潔劑」的角色，
不過這類清潔劑是氣態，而非液態。在一九九九至公元二千年間，由於TFT-LCD廠大
量增加，供應量約有二、三季趕不上科技界的需求，成為影響產業上游供應端的關
鍵材料。
在半導體晶圓廠及TFT-LCD廠中，薄膜製程主要設備都是「化學氣相沉積」（CVD）
機台，會在晶圓片或面板上長出薄膜。薄膜的成份有可能是矽、二氧化矽或其他金屬
材料，但這些材料不僅會附著在晶片及面板上，也附著在反應室（chamber）內的牆
壁上，內牆上的二氧化矽累積至相當數量，就會在反應室內形成微塵粒子（Particle）
，影響晶圓片或面板的良率。
因此每台CVD機器在處理過一定數量的晶圓片及面板後，就要使用含氟的氣體清洗，
以去除內壁上的矽化物質。不過NF3與CF4、C2F6等氣體都屬多氟碳化物，是造成溫室
效應的來源之一。半導體廠及晶圓廠為了降低排氣對溫室效應的影響，在排放含氟廢
氣前，會以攝氏七百至八百度高溫才進行將氣體由有機轉分解為無機，才不會破壞臭
氧層。
全球供應NF3氣體的廠商主要有四家，除美國公司Air Product外，三家日本供應商
分別為中央硝子、關東電化（KDK）、及三井。NF3除了用於半導體及TFT-LCD面板之外
，也可用於彈道飛彈的固態燃料，因此屬管制品，目前原材料生產線僅限於美國、俄
羅斯、南非、日本、及中國大陸。
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