不好意思,實在是不知道可以到哪邊去找人問,
我想了解台積電跟聯電這兩個在半導體製程上優於其他家半導體的地方,
他們會根據不同的客戶需求而改變不同的製程然後使用不同的清洗液嗎?
(譬如說SC1,SC2等...)
我指的是在擴散跟蝕刻方面,用的清洗液會不同嗎?
還有目前我知道他們在測這些清洗,蝕刻液有些是用到電導度計,
不知道其使用上有何缺點呢?
順便請問一下,製程上負責管理這些液體分析儀器的是屬於哪個單位呢?
麻煩板上各位前輩幫忙解答一下,感激不盡m(_ _)m
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